Ultra-Low Loss Coating

광학 기판 위에 광기능성 유전체 박막을 코팅하는 과정에서 손실을 최소화하는 목적으로 적용되는 것으로써, 초연마 가공된 기판을 사용하여 박막을 구성하는 물질의 순도, 박막의 조밀도, 물리/화학/기계/환경적 특성 최적화 및 Thin film 프로세스를 최적화하는 것을 포함합니다. 특히 초저손실 특성을 구현하기 위해서는 박막공정 자체를 포함하여 전후 공정기술인 세정, 에칭, 그리고 열처리 공정이 핵심입니다. 최종적으로 완성된 초저손실 코팅 제품은 산란손실, 흡수손실 및 투과손실에 대해서 ppm급 정밀도로 측정되며, 또한 파티클, Scratch/Dig 유무를 고배율 현미경으로도 관측합니다. 초저손실 코팅 기반 광학제품은 자외선대역의 레이저 부품과 레이저 초정밀계측, 그리고 관성항법장치 분야에서 핵심부품 기술로써 적용됩니다.

 Scatter loss : 5ppm (at 633nm)

 Absorption loss : 10ppm (at 633nm)

 Reflectivity : 99.998% (for S-Pol, AOI 45º, at 633nm)

 Particle/Scratch/Dig free

 Outstanding environmental stability

 Thin film Materials : Ta2O5, SiO2, HfO2

 Substrate Materials : Fused Silica, Zerodur, BK-7

Nd:YAG 레이저 파장인 1064nm를 포함하여 300~3,000nm의 넓은 파장 대역에 대한 레이저 손상 문턱치(Laser induced damage threshold : LIDT)를 향상시켜 레이저의 고출력화가 가능합니다. 레이저 손상 문턱치 향상을 위해서는 박막 설계, 박막 물성, 증착 파라미터와 이물질/오염 관리가 중요하며, 특히 박막의 내구성 향상을 위해서는 통상적인 전자빔(E-beam) 코팅방식이 아닌 첨단 박막증착 방식을 적용하고 있습니다. 레이저 손상 문턱치 향상 기술은 일반 광학기판 외에도 레이저 크리스탈 및 비선형 크리스탈 등에 다양하게 적용되며, 이 외에도 스펙트럼 제어 성능과 광투과도/광반사도 향상, 특히 UV 대역에서의 성능 향상 기술도 수반하고 있습니다.

 Working wavelength : 300 ~ 2,000nm

 LIDT : Pulse 79J/cm^2 (@1064nm, 10ns pulse width, 10Hz repeatability) 

         CW 164kw/cm (@1070nm)

 High uniformity and run-to-run repeatability

 Outstanding environmental stability

 High precision AR/HR/Filter performance

 Thin film Materials : Ta2O5, SiO2, HfO2, ZrO2

 Substrate Materials : Fused Silica, Zerodur, BK-7, Crystals